東ソー・ファインケム株式会社
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電子材料 Electronic Materials
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ハイテクノロジーの未来を支える半導体用超高純度有機金属
電子材料半導体用超高純度有機金属は、化合物半導体の成膜技術のひとつであるMOCVD法(Metal-Organic Chemical Vapor Deposition)の原料として使用されます。

化合物半導体は、シリコン半導体にはない発光・受光機能を持ち、シリコン半導体に比べ電子の高速動作性に優れています。これらの特性を生かし、レーザーダイオードや発光ダイオード(LED)の光デバイスや、携帯電話の高周波トランジスタなどの電子デバイスに用いられています。

顧客ニーズを満足させる迅速な製品開発、徹底した品質・安全管理による製造・出荷体制
充填容器当社では1982年より半導体用超高純度有機金属の製造を開始しており、長年に渡りお客様のご要望にお応えし、製品の品質改良に取り組んで参りました。金属不純物/有機シリコンの低減に始まり、TMIの供給安定性の向上、酸素含有量の低減化では多数のお客様のご評価をいただいております。

また、有機金属は消防法上危険物第三類(禁水性及び自然発火性物質)に該当するため、製造/出荷といった製品の取り扱いにはより徹底した安全管理が求められます。当社はアルキルアルミニウムの製造で培われた経験を生かし、万全の管理体制を整えています。
半導体用高純度有機金属 略式名称 名称 化学式
種別 Electronic grade metal alkyls EG-TMI Trimethylindium (CH3)3In
EG-TMG Trimethylgallium (CH3)3Ga
EG-TEG Triethylgallium (C2H5)3Ga
EG-TMAL Trimethylaluminum (CH3)3Al
EG-DEZ Diethylzinc (C2H5)2Zn
EG-DMZ Dimethylzinc (CH3)2Zn
用途 半導体レーザー、発光ダイオード、高周波デバイス等の製造原料
特徴 クリーン環境で高度な精製技術により製造されています。顧客ニーズに合せた対応が可能です。
不純物分析
不純物分析
ヘリウム リーク チェック
ヘリウム リーク チェック

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